蒙脫shi混懸液均質(zhì)機(jī),不僅可以對蒙脫shi混懸液粒徑進(jìn)行細(xì)化,還可以將混懸液均質(zhì)的更均勻。這取決于太倉希德研磨均質(zhì)機(jī)的特殊設(shè)計,SID研磨均質(zhì)機(jī)將膠體磨和均質(zhì)機(jī)合二為一,先研磨細(xì)化粒徑,再對物料進(jìn)行均質(zhì),使蒙脫shi混懸液更加細(xì)膩、均勻、穩(wěn)定。
蒙脫shi混懸液均質(zhì)機(jī)
蒙脫shi混懸液由主藥蒙脫shi、助懸劑、矯味劑等組成,用于治療腹瀉及消化道潰瘍等效果xian著。其具有服用劑量準(zhǔn)確、服用攜帶方便、粒度較細(xì)、服用后可快速均質(zhì)到人體消化道、效果更好等多種優(yōu)點?;鞈乙旱闹苽湓瓌t首先是使粉粒潤濕并在液體均質(zhì)介質(zhì)中均勻均質(zhì),保持一定條件使其盡量不聚集,然后采取一定的措施防止結(jié)塊。
制備方法通?;鞈乙旱挠袃煞N:均質(zhì)法和凝聚法。由于蒙脫shi本身的性質(zhì)我們采用的是均質(zhì)法,混懸液中微粒的大小不僅關(guān)系到混懸液的質(zhì)量和穩(wěn)定性,也會影響混懸液的藥效和生物利用度。所以測定混懸液中微粒大小及其分布,是評定混懸液質(zhì)量的重要指。由于本研究的蒙脫shi采用的是法國益普生公司研制的商品名為思密達(dá)的蒙脫shi散劑,故其微粒大小符合要求,無需測其微粒大小。

當(dāng)蒙脫shi混懸液的工藝配方確定時,為了降低沉降系數(shù),我們可以通過減小粒子的半徑來縮小沉降系數(shù)。蒙脫shi混懸液粒徑的細(xì)化,取決于均質(zhì)設(shè)備的選擇。如果采用SID研磨均質(zhì)機(jī)的話,不僅可以對蒙脫shi混懸液粒徑進(jìn)行細(xì)化,還可以將混懸液均質(zhì)的更均勻。這取決于太倉希德研磨均質(zhì)機(jī)的特殊設(shè)計,SID研磨均質(zhì)機(jī)將膠體磨和均質(zhì)機(jī)合二為一,先研磨細(xì)化粒徑,再對物料進(jìn)行均質(zhì),使蒙脫shi混懸液更加細(xì)膩、均勻、穩(wěn)定。
GMD2000系列研磨均質(zhì)設(shè)備是SID(太倉)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨均質(zhì)乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料均質(zhì)乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
GMD2000系列均質(zhì)機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式均質(zhì)機(jī)是由錐體磨,均質(zhì)機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
初級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。均質(zhì)頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。

蒙脫shi混懸液均質(zhì)機(jī)的特點:
① 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

